Segurança 06 Ago
A SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), fabricante de máquinas para produção de semicondutores, registrou a patente de uma nova técnica para produzir máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV) — uma tecnologia fundamental para a fabricação de hardware com alto desempenho e eficiência energética.
A patente mostra como a empresa progrediu na tecnologia, que poderia ajudar fabricantes de hardware chinesas — como a Huawei, Loongson e Biren — a contornar as dificuldades causadas pelos embargos comerciais dos Estados Unidos.
A Huawei é uma das fabricantes mais impactadas pelas sanções comerciais impostas pelos Estados Unidos sobre empresas de tecnologia da China. Apesar disso, a companhia pôde reduzir sua dependência de tecnologias externas com o lançamento de produtos como o Huawei Pura 70, que tem 90% de suas peças fabricadas localmente.
Uma das peças mais complexas de ser fabricada é o processador. A mais avançada fornecedora de máquinas para produzir chips é a ASML que, devido aos embargos, também deixou de comercializar tecnologias à China.
Apesar de anos de esforços, a SMEE fica atrás da ASML na produção de equipamentos de litografia que podem ser usados para processos menores que 28 nanômetros. No entanto, esse cenário pode mudar graças à nova patente chinesa para fabricação de hardware.
Registrada em março de 2023, a tecnologia teve seus documentos publicados na última terça-feira (10) pela Administração Nacional de Propriedade Intelectual da China. Os detalhes da patente são atualmente desconhecidos, mas confirmam que as empresas chinesas estão avançando rumo à produção de chips mais avançados.
A SMIC (Semiconductor International Manufacturing Corporation), principal empresa de fundição da China (que também está sob sanções), precisou recorrer a “improvisos” com sua litografia de 7 nanômetros para conseguir fabricar o processador do Huawei Mate 60, mas amargando um baixo rendimento de produção.
Máquinas de litografia ultravioleta extrema permitem fabricar processadores de ponta com o uso de luz. Esse tipo de onda tem um comprimento de 13,5 nanômetros, isto é, 14 vezes menor que o ultravioleta profundo (DUV). O EUV é necessário para fabricar chips com processos menores que 7 nanômetros.
Com equipamentos avançados de fabricação de chips, a Huawei poderia ter um maior poder competitivo contra as principais marcas de smartphones, tablets, notebooks e outros dispositivos em nível global.
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